靶材
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纯度:99.7%~99.999%;
应用领域:光学镀膜工业,工具及装饰镀膜工业。
旋转靶采用真空熔炼工艺,可生产较大长度4000mm,厚度根据客户要求定制。
平面靶采用真空熔炼工艺,可生产较大长度2500mm,较大宽度400mm,尺寸可根据客户要求加工。
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主要经营主营产品:溅射靶材(金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、氧化物靶材、氟化物靶材、化物靶材)、蒸发镀膜材料、无机化合物材料、半导体材料、太阳能光伏材料、电子材料、金属粉末、氧化物粉末、贵金属材料、镀膜基片、坩埚等。。
单位注册资金单位注册资金人民币 100 万元以下。
我公司主要供应溅射靶材,蒸发镀膜材料,金属材料及加工件等,产品销售全国,深受企业用户的信任和**!期待与您的合作!